LARC®和CERC®是PLATIT的商标名,分别代表门内和腔室中心位置的旋转圆柱形阴极,采用电弧沉积技术。
PLATIT的所有Pi系列的涂层设备都基于革命性的LARC®阴极(侧向旋转阴极)。Pi411配备有升级的CERC®(中心旋转阴极)。

旋转阴极与其他传统阴极相比,具有许多优点:

  • 非合金靶材的涂层组合可灵活编程
  • 更大、更有效的靶材表面(π x d),在恒定靶材高度h下,(π x d x h)扩展了靶材的使用寿命
  • 卓越的过程控制和稳定性
  • 通过LGD®(侧向辉光放电)蚀刻改善涂层结合力
  • 在腔内垂直方向上均匀的涂层厚度分布
  • 中心位置的阴极可以放置CERC® (中心旋转阴极)

LARC 侧向旋转阴极电弧