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旋转阴极电弧
LARC®和CERC®是PLATIT的商标名,分别代表门内和腔室中心位置的旋转圆柱形阴极,采用电弧沉积技术。
PLATIT的所有Pi系列的涂层设备都基于革命性的LARC®阴极(侧向旋转阴极)。Pi411配备有升级的CERC®(中心旋转阴极)。
与传统的小圆靶阴极相比,旋转阴极具有以下优点:
非合金靶材的涂层组合可灵活编程
更大、更有效的靶材表面(pi x d),在恒定靶材高度h下,(pi x d x h)扩展了靶材的使用寿命
卓越的过程控制和稳定性
通过LGD®(侧向辉光放电)蚀刻改善涂层结合力
在腔内垂直方向上均匀的涂层厚度分布