Unsere PVD-Serienanlagen eignen sich ideal zum Beschichten von Werkzeugen und Bauteilen in marktüblichen Grössen. Sie ermöglichen kurze Beschichtungszeiten mit hochqualitativen Schichten und sind flexibel mit unterschiedlichen Schichtstrukturen programmierbar. Die Anlagen können PVD- und PECVD-Abscheidungsverfahren für diverse Nitrid-, oxidische sowie DLC-Beschichtungen ausführen.
Pi111
Pi411
PL711
PL1011
Pi1511
Max. Beschichtungs-Volumen [mm]
ø 353 x
H 498
ø 540 x
H 500
ø 540 x
H 800
ø 715 x
H 805
ø 715 x
H 805
Max. Beladung [kg]
160
200
250
750
750
Beladung und Zykluszeiten bei Schaft-Werkzeugen (2 μm): ø 10 x 70 [mm]
288 Stück,
3 - 5 h
504 Stück,
≥ 4,5 h
540 Stück,
≥ 8 h,
mit DLC2
1008 Stück,
≥ 5,5 h
1080 Stück,
7 h
ARC-Technologie
2 x LARC® PLUS-Kathoden
3 x LARC®-Kathoden,
erweiterbar mit 1 x CERC®-Kathode
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4 x Planare Kathoden, erweiterbar mit Double-Pulsed-Option
3 x LARC® XL-Kathoden,
2 x Planare Kathoden
SPUTTER-Technologie
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Erweiterbar mit 1 x zentraler SCIL®-Kathode
2 x Planare Kathoden
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Hybrid-LACS®-Technologie mit simultanen ARC- und SPUTTER-Prozessen
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Ja, erweiterbar
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DLC
Erweiterbar für DLC1
DLC1, erweiterbar für PECVD (DLC2) und für ta-C gesputtert (DLC3)
PECVD (DLC2) und ta-C gesputtert (DLC3)
DLC1
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OXI
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Erweiterbar für oxidische Schichten
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Plasmanitrier-Funktion
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Ja, erweiterbar
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