Die PL711 ist eine kompakte SPUTTER-Beschichtungsanlage auf Basis der HiPIMS-Technologie (High Power Impulse Magnetron SPUTTERING). Sie verfügt über zwei Planare HiPIMS-Kathoden und erlaubt die Abscheidung von ausgewählten Nitrid- und Kohlenstoffschichten (DLC2, DLC3) mittels hochproduktiver Prozesse. Eine gute Plasmaausnutzung wird dank eines zusätzlichen Boosters, dem PLATIT-3D-Modul, erzielt.
Das PA3D-Modul mit zentraler Anode fokussiert ein dichtes, dreidimensionales Plasma mit hoher Ionisation in das Karussell und erzeugt damit eine homogene Beschichtung und hohe Beschichtungsrate. Beschichtungen aus der PL711 liefern exzellent glatte Oberflächen bei gleichzeitig hoher Dichte, Härte und hervorragender Haftung.
SPUTTER Nitrid-Beschichtungen
SPUTTER Cr und a-C:H:Si
SPUTTER Cr und ta-C + a-C